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一盆冷水不用EUV光刻机就能造成5nm [复制链接]

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一盆冷水!还得到之前刷爆网络说,中科院“突破ASML的垄断”、“不用EUV光刻机就能造成5nm芯片”的消息吗!

中科院研发的5纳米超高精度激光光刻加工方法的主要用途是制作光掩模。光掩模是集成电路光刻制造过程中,不可缺少一个部分。相当于芯片的“模板”。

可以把激光光刻技术,理解成按线路往下一步步雕刻线。用的是直写技术,所以无需掩模版。

而工业环境生产芯片是,光照射到掩模版上,再通过掩模版把线路留在涂有光刻胶的晶片少上。

激光光刻是按线路刻图型线,工业环境光刻机是拍照曝光形式刻图型线在晶圆片上。

目前我们只能制造中低端的掩模版,因此,中科院5纳米超高精度激光光刻加工方法的突破,可以进一步提高掩模版的制造水平。并用于晶圆厂生产芯片。

直白点说,两个用途完全不一样。此5纳米,非彼5纳米。“激光5纳米”是制造出生产芯片中用到的配件(掩模版),“EUV5纳米”是完全是用于芯片生产。

现实情况,可以有些真的不懂,或者理解不到位。但有些真的就是营销性文章或视频。观众听多了,自然就真的以为是真实的。

譬如,武汉弘芯抵押的光刻机,中芯国际、长江存储、长鑫存储等企业都有,非要说成国内唯一一台7纳米光刻机。

国内某光刻胶生产厂商,购买了一台韩国二手光刻机。非要包装成,我们费了九牛二虎之力,转手得到一台来之不易的光刻机。

现实是这些光刻机并不在禁售范围,之所以购买二手,因为光刻胶厂商没有必要是新机。只要生产的光刻机符合技术要求即可。目前是除EUV光刻机外,其它随便买。

真真假假真真!总之能包装得好,有了阅读、有了播放就是“好事”!

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