一盆冷水！还得到之前刷爆网络说，中科院“突破ASML的垄断”、“不用EUV光刻机就能造成5nm芯片”的消息吗！
中科院研发的5纳米超高精度激光光刻加工方法的主要用途是制作光掩模。光掩模是集成电路光刻制造过程中，不可缺少一个部分。相当于芯片的“模板”。
可以把激光光刻技术，理解成按线路往下一步步雕刻线。用的是直写技术，所以无需掩模版。
而工业环境生产芯片是，光照射到掩模版上，再通过掩模版把线路留在涂有光刻胶的晶片少上。
激光光刻是按线路刻图型线，工业环境光刻机是拍照曝光形式刻图型线在晶圆片上。
目前我们只能制造中低端的掩模版，因此，中科院5纳米超高精度激光光刻加工方法的突破，可以进一步提高掩模版的制造水平。并用于晶圆厂生产芯片。
直白点说，两个用途完全不一样。此5纳米，非彼5纳米。“激光5纳米”是制造出生产芯片中用到的配件（掩模版），“EUV5纳米”是完全是用于芯片生产。
现实情况，可以有些真的不懂，或者理解不到位。但有些真的就是营销性文章或视频。观众听多了，自然就真的以为是真实的。
譬如，武汉弘芯抵押的光刻机，中芯国际、长江存储、长鑫存储等企业都有，非要说成国内唯一一台7纳米光刻机。
国内某光刻胶生产厂商，购买了一台韩国二手光刻机。非要包装成，我们费了九牛二虎之力，转手得到一台来之不易的光刻机。
现实是这些光刻机并不在禁售范围，之所以购买二手，因为光刻胶厂商没有必要是新机。只要生产的光刻机符合技术要求即可。目前是除EUV光刻机外，其它随便买。
真真假假真真！总之能包装得好，有了阅读、有了播放就是“好事”！